射頻(RF)微晶P高速率高晶化率鍍膜，大產能異質結PECVD提效降本之路

      近日，捷佳偉創常州HJT中試線成功研發出具有行業先進水平的射頻(RF)微晶P工藝，微晶P薄膜沉積速率超過2埃/秒，同時晶化率穩定在50%以上。常州中試線制備的基于雙面微晶的12BB異質結電池平均效率達到25.1%（德國ISFH（哈梅林）標準），電池良品率穩定在98%以上。

      射頻(RF)微晶P的高速高質量沉積，一直是困擾異質結大產能板式PECVD的技術難點，通過本次技術突破，捷佳偉創的大產能射頻板式PECVD預計將比市面上主流設備減少1-2個微晶P腔體。射頻(RF)微晶P設備工藝均勻性達到6%以內，穩定性和重復性均在中試線量產設備上得到充分驗證，達到行業先進技術水平。

     一直以來，捷佳偉創在積極推進HJT的產業化發展。公司在濕法設備、PECVD/CAT-CVD、PVD/RPD/PAR、絲網印刷/銅電鍍/新型組件焊接設備方面進行深入研究，具備HJT電池整線交鑰匙工程的能力。公司近期已中標全球頭部光伏企業量產型HJT整線訂單，標志著公司在HJT全路線裝備和工藝技術上取得突破，獲得市場及客戶認可。

      此次射頻(RF)微晶P高速率高晶化率工藝取得突破，進一步增強了公司在HJT設備領域的競爭優勢。捷佳偉創始終堅持實干與創新為一體，堅持“逢山開路，遇河架橋”的創新精神，積極改革設備技術、持續擴大研發范圍，為光伏行業的穩定發展注入生生不息的源動能。