解決技術瓶頸 實現市場突破——第三代半導體設備成功研制并順利發貨

近日，公司自主研制的碳化硅高溫熱處理工藝設備成功下線，試運行期間各項技術指標均滿足客戶需求，通過預驗收后順利發往國內半導體IDM某頭部企業。該設備主要用于制造碳化硅功率器件，能有效降低碳化硅晶體中的微觀應力、消除組織缺陷和降低界面態密度、提高載流子遷移率以及壽命。此次碳化硅高溫熱處理工藝設備的首次發貨，標志著公司在第三代半導體裝備上取得重大突破，半導體裝備的自主研發能力邁上了新臺階，為拓展新領域業務奠定了堅實基礎。

我國半導體設備依賴進口局面有所改善，但關鍵設備、部件依然“受制于人”，面臨交貨周期長或無法供貨等問題。為助力半導體制造技術發展，公司成立了半導體裝備事業部，組建碳化硅關鍵裝備技術創新團隊，在公司高層的統一指揮和推動下，制定科研攻關計劃，明確重點，壓實責任，統籌推進，短時間內突破了工藝爐管腔室設計與制造技術等六大核心技術，成功研制出碳化硅高溫熱處理設備，并獲得市場訂單。

公司始終牢記習總書記實業報國囑托，自力更生，堅決打贏半導體領域核心技術攻堅戰。公司將在半導體裝備領域繼續加大研發投入力度，主攻工藝融合設備方向，為客戶提供功能更加完善、精度更高以及自動化、智能化程度更好的半導體設備，將更好的設備，更優的服務帶給客戶，實現合作共贏。