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        管式二合一PECVD設(shè)備

        產(chǎn)品與服務(wù) > 管式設(shè)備系列 > 管式二合一PECVD設(shè)備

        管式二合一PECVD設(shè)備

        AlO+SiN薄膜沉積。


        設(shè)備名稱 Equipment Name

        管式二合一PECVD設(shè)備  Horizontal PECVD (Two-In-One)

        設(shè)備型號 Equipment Model

        PD-520/PD-520L/PD-520MAX

        設(shè)備用途 Equipment Application

        AlO+SiN薄膜沉積。

        AlOx+SiN deposition.


        技術(shù)特點(diǎn)  Features

        1、AlOx+SiN二合一同管完成,減少工藝環(huán)節(jié),有效提升良率、降低碎片率。

        The AIOx & SiN layers can be coated in the same furnace tube which helps in reducing the process steps,improving the yield and lowering the breakage rate effectively.  

        2、單機(jī)產(chǎn)能優(yōu)越的二合一配置方案。
        Optimal throughout solution: two-in-one configuration. 


        設(shè)備參數(shù)  Parameters


        上一個(gè): 管式PECVD設(shè)備
        下一個(gè): 管式PE-Poly設(shè)備
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